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無(wú)塵室主要之作用在于控制產(chǎn)品（如硅芯片等）所接觸之大氣的潔凈度日及溫濕度，使產(chǎn)品能在一個(gè)良好之環(huán)境空間中生產(chǎn)、制造，此空間我們稱(chēng)之為無(wú)塵室。按照慣例，無(wú)塵凈化級別主要是根據每立方米空氣中粒子直徑大于劃分標準的粒子數量來(lái)規定。也就是說(shuō)所謂無(wú)塵并非100%沒(méi)有一點(diǎn)灰塵，而是控制在一個(gè)非常微量的單位上。當然這個(gè)標準中符合灰塵標準的顆粒相對于我們常見(jiàn)的灰塵已經(jīng)是小的微乎其微，但是對于光學(xué)構造而言，哪怕是一點(diǎn)點(diǎn)的灰塵都會(huì )產(chǎn)生非常大的負面影響，所以在光學(xué)構造產(chǎn)品的生產(chǎn)上，無(wú)塵是必然的要求。

如表所示，每立方米將大于0.5微米粒徑的微塵數量控制在3500個(gè)以下，就達到了無(wú)塵標準的*。應用在芯片級生產(chǎn)加工的無(wú)塵標準對于灰塵的要求高于*，這樣的高標主要被應用在一些等級較高芯片生產(chǎn)上。微塵數量被嚴格控制在每立方米1000個(gè)以?xún)?，這也就是業(yè)內俗稱(chēng)的1K級別。